分子生物学DNA损伤与修复培训课件.ppt

高电压技术–概述课件.ppt

主讲人:张 新 慧 Tel:13561619726 Email,高电压技术,1,主讲人:张 新 慧高电压技术1,高压电网向特高压电网发展的历程,1875年,法国巴黎建成世界上第一座发电厂,标志着世界电力时代的到来,1891年,在德国劳芬电厂,

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1、分子生物学DNA损伤与修复,分子生物学DNA损伤与修复,目的与要求学时：21.掌握：DNA 损伤的类型2.掌握：DNA损伤修复的方式3.了解：DNA损伤、修复的意义4.了解：DNA损伤的因素,2,分子生物学DNA损伤与修复,目的与要求2分子生物学DNA损伤与修复,各种体内外因素所导致的DNA组成与结构的变化称为DNA损伤（DNA damage）,电离辐射,氧自由基,烷化剂,复制错误,核苷类似物,3,分子生物学DNA损伤与修复,各种体内外因素所导致的DNA组成与结构的变化称为DNA损伤（,其一，DNA的结构发生永久性改变，即突变 其二，导致DNA失去作为复制和/或转录的模板的功能,DNA损伤的后

2、果:,4,分子生物学DNA损伤与修复,其一，DNA的结构发生永久性改变，即突变 DNA损伤的后果:,DNA损伤DNA Damage,第一节,5,分子生物学DNA损伤与修复,DNA损伤第一节5分子生物学DNA损伤与修复,一、多种因素通过不同机制导致DNA损伤,（一）体内因素,DNA复制错误 DNA自身的不稳定性 机体代谢过程中产生的活性氧,2017年3月科学杂志论文：癌症发生的原因中运气不好占66.1%。,6,分子生物学DNA损伤与修复,一、多种因素通过不同机制导致DNA损伤（一）体内因素 DNA,DNA复制错误：,1.碱基错配互变异构移位（tautomeric shift）:碱基发生了酮式-烯

3、醇式或氨基-亚氨基异构体互变，造成碱基配对发生改变，使复制后的子链上出现错误。,7,分子生物学DNA损伤与修复,DNA复制错误：1.碱基错配7分子生物学DNA损伤与修复,8,分子生物学DNA损伤与修复,8分子生物学DNA损伤与修复,2.复制打滑,9,分子生物学DNA损伤与修复,2.复制打滑9分子生物学DNA损伤与修复,脆性X综合征 X染色体上(CGG)n重复序列的拷贝数增加。在男性中的发病率为1/10001/1500，在所有男性智力低下患者约10%20为本病所引起。,10,分子生物学DNA损伤与修复,脆性X综合征10分子生物学DNA损伤与修复,肌强直性营养不良 19号染色体上编码肌强直性蛋白激

4、酶Dystrophia myotonica protein kinase(DMPK)3-UTR 区(CTG)n重复序列扩增导致。多见于青春期后，男多于女。主要症状为肌无力、肌萎缩和肌强直。,面容瘦长，颧骨隆起，呈斧状脸，颈消瘦而稍前屈。骨骼肌收缩后松弛显著延迟，导致明显的肌肉僵硬,11,分子生物学DNA损伤与修复,肌强直性营养不良面容瘦长，颧骨隆起，呈斧状脸，颈消瘦而稍前屈,DNA自身的不稳定性：,DNA结构自身的不稳定性是DNA自发性损伤中最频繁和最重要的因素。当DNA受热或所处环境的pH值发生改变时，DNA分子上连接碱基和核糖之间的糖苷键可自发发生水解，导致碱基的丢失或脱落，其中以脱嘌呤最

5、为普遍。,12,分子生物学DNA损伤与修复,DNA自身的不稳定性：DNA结构自身的不稳定性是DNA自发,含有氨基的碱基还可能自发脱氨基反应，转变为另一种碱基，即碱基的转变，如C转变为U，A转变为I（次黄嘌呤）等。,13,分子生物学DNA损伤与修复,含有氨基的碱基还可能自发脱氨基反应，转变为另一种碱基，即碱基,活性氧（ROS）：反应活性很高的含氧自由基和H2O2。自由基：外层轨道带有未配对电子的原子、原子团或分子。（O2-和OH等）含氧自由基可造成碱基的氧化，如8-氧鸟嘌呤（7,8-oxoG,GO）可与C或A配对，造成G-C T-A的颠换。,机体代谢过程中产生的活性氧,14,分子生物学DNA损伤

6、与修复,活性氧（ROS）：反应活性很高的含氧自由基和H2O2,羟自由基作用：破坏碱基结构核糖分解DNA链断裂DNA链、蛋白质的交联,15,分子生物学DNA损伤与修复,羟自由基作用：15分子生物学DNA损伤与修复,（二）体外因素,物理因素化学因素生物因素,16,分子生物学DNA损伤与修复,（二）体外因素物理因素16分子生物学DNA损伤与修复,物理因素：电离辐射（核辐射、各种射线）、非电离辐射（紫外线、各种电器发出的辐射）,岡崎,17,分子生物学DNA损伤与修复,物理因素：电离辐射（核辐射、各种射线）、非电离辐射（紫外线、,化学因素：,自由基碱基类似物碱基修饰剂、烷化剂嵌入性染料,18,分子生物学DNA损伤与修复,化学因素：自由基18分子生物学DNA损伤与修复,5-BrdU（酮式-A；烯醇式-G）(T碱基类似物）,亚硝酸盐氧化脱氨（CU）（碱基修饰）SAM使G甲基化（G与T配对）（烷化剂）,黄曲霉素B（攻击碱基，书235页）,吖啶类化合物:吖啶橙(嵌入染料),19,分子生物学DNA损伤与修复,5-BrdU（酮式-A；烯醇式-G）(T碱基类似物）,嵌入染料,20,分子生物学DNA损伤与修复,